磁控濺射技術 與真空蒸發技術有所不同。濺射是指核能粒子轟擊固體表麵，使固體原子或分子從表麵射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態，常稱為濺射原子。用於轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易於加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。

濺射過程建立在輝光放電的基礎上，即濺射離子都來源於氣體放電。不同的濺射技術所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射技術 是利用環狀磁場控製下的輝光放電。