金屬PVD真空91香蕉影院在线观看中濺射鍍與真空蒸發鍍相比，具有以下優點：可大麵積沉積、大規模連續生產、任何物質，特別是高熔點、低蒸汽壓力元素和化合物、濺射塗層組織致密，無孔，基底附著力好。但也存在濺射設備複雜、真空係統和高壓裝置、濺射沉積速度慢等缺點。

濺射鍍方法有以下幾種：

(1)二極濺射

二極濺射是最早使用的濺射方法。金屬基材作為陰極，鍍層材料為陽極。陰極和陰極1-3KV直流負高壓連接，陽極通常接地。工作時，先抽真空，然後通過氬氣使真空室達到濺射壓力。通電時，陰極靶上的負高壓在兩極之間產生光放電，產生等離子體區域，加速陰極目標的轟擊，使基材表麵得到濺鍍，沉積在基板表麵，形成目標材料膜。該裝置具有結構簡單、控製方便等優點。缺點是：由於工作壓力高，膜層被玷汙；由於大量二次電子直接轟擊基片，基片溫度升高過高。

(2)三極濺射

三極濺射是將電極-熱陰極附著在二極濺射裝置上，發射熱電子。在電場的吸引下，熱電子通過靶與基極之間的等離子體區域加強放電。它不僅可以提高濺射率，而且更容易控製濺射條件。

(3)四極濺射

在三極濺射的基礎上，在塗層室外增加一個聚束線圈，也稱為輔助陽極或穩定電極。聚束線圈的作用是將電子聚集在靶陰極和基陽極之間，形成低壓、大電流等離子體弧柱，大量電子碰撞氣體電離，產生大量離子。聚束線圈還能穩定放電。這種濺射方法仍然無法抑製目標產生的高速電子對基板的轟擊，膜層也會因燈絲不純而被玷汙。

(4)射頻濺射

離子運動與氣體原子發生更多的碰撞。這樣，氣體就可以獲得更充分的電離，從而提高濺射效果。在射頻電源交變電場的作用下，氣體中的電子相應振蕩，氣體電離為等離子體。射頻濺射的缺點是，大功率射頻電源不僅價格高，而且對人身保護也存在問題。因此，射頻濺射不適合工業生產和應用。

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