你知道PVD真空91香蕉影院在线观看 的三種91大香蕉在线视频工藝：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍的區別在哪裏嗎？其區別主要如下：

1、從膜層特點看：真空蒸鍍密度小但表麵光滑、低溫時氣孔多、附著性不太好、內應力為拉應力繞射性差；濺射密度大、氣孔少、但混入濺射氣體較多、附著性較好、內應力為壓應力、繞射性差；離子鍍密度大，無氣孔但膜層缺陷較多，附著性很好，內應力視工藝條件而定，繞射性較好。

2、從被沉積物質的氣化方式看：真空蒸鍍為電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、激光加熱等；濺射鍍的鍍料原子不是靠加熱方式蒸發，而是靠陰極濺射由靶材獲得沉積原子；離子鍍可以分為蒸發式或者濺射式，蒸發式為電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、激光加熱等，濺射式由進入輝光放電空間的原子由氣體提供，反應物沉積在基片上。

3、從91香蕉影院在线观看的原理及特點看：真空蒸鍍工件不帶電，真空條件下金屬加熱蒸發沉積到工件表麵，沉積粒子的能量與蒸發時的溫度對應。濺射鍍的工件為陽極，靶為陰極，利用氬原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表麵上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極，蒸發源為陽極，進入輝光放電空間的金屬原子離子化後奔向工件，並在工件表麵沉積成膜，沉積過程中離子對基片表麵、膜層與基片的界麵以及膜層本身都發生轟擊作用，粒子的能量決定於陰極上所加的電壓。

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